10일 경기도 평택시와 삼성전자에 따르면 오는 9월부터 총 30조원이상의 비용이 투입될 평택캠펴스의 반도체 생산라인(P3)의 건물 착공이 시작된다.
삼성전자는 P4~6라인 건설에 대비해 평택시에 공업용수를 추가로 확보해 달라고 요청하는 등 나머지 라인 신축도 서두르고 있다.
P3라인은 삼성전자가 평택캠퍼스에 짓기로 한 총 6개의 라인 중 최대 규모다. 최종 건축허가 면적은 70만㎡로 알려졌으며, 반도체 생산라인 2개 층과 사무실 등 부속동 5개 층 이상을 합친 규모로 예상된다.
P3라인은 2023년 하반기에 본격적인 양산에 들어갈 것으로 관측된다. 반도체 공장 건설과 설비 반입, 생산까지 3~4년가량 소요된다.
P3라인이 건설되면 평택 캠퍼스에 확보된 총 6개의 반도체 공장 부지 가운데 절반이 가동 중이거나 공사에 들어가게 됐다.
앞서 삼성전자는 2분기 시설투자에 영업이익 8조1500억원보다 1조6500억원이 더 많은 9조8000어원을 썼다. 상반기에만 14조7000억원 투자를 집행했으며, 하반기에도 같은 수준의 투자를 단행할 것으로 보인다.
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